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更新時(shí)間：2025-11-09簡要描述：加快測量速度通過引入CW光專用靈敏度模式[RAPID]，相較于以往機(jī)型，測量速度可提高多達(dá)20倍。這將縮短光譜測量所需的時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
加快測量速度
通過引入CW光專用靈敏度模式[RAPID]，相較于以往機(jī)型，測量速度可提高多達(dá)20倍。這將縮短光譜測量所需的時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
與傳統(tǒng)機(jī)型相比
參考值跨度為100nm，25001個(gè)采樣點(diǎn)，平均值為1，噪聲水平約為?60 dBm
AQ6361體積不到AQ6370E的一半，可以成對(duì)安裝在標(biāo)準(zhǔn)機(jī)架上。這有助于降低復(fù)雜生產(chǎn)線和芯片測試儀所占用的體積，從而優(yōu)化空間。
根據(jù)測量應(yīng)用，可以選擇從0.03nm(高性能機(jī)型)到2nm的波長分辨率。此外，AQ6361還能提供高動(dòng)態(tài)范圍測量，具有73dB的出色雜散光抑制性能(高性能機(jī)型)。
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